PVD ծածկույթ
PVD (Physical Vapor Deposition) տեխնոլոգիան վերաբերում է ֆիզիկական մեթոդների կիրառմանը վակուումային պայմաններում նյութի աղբյուրի (պինդ կամ հեղուկ) մակերեսը գազային ատոմների կամ մոլեկուլների գոլորշիացման համար, կամ մասնակիորեն իոնացվելու է իոնների և ցածր ճնշման գազի միջոցով: կամ պլազմա) պրոցես, Տեխնոլոգիա, որը բարակ թաղանթներ է նստեցնում որոշակի հատուկ գործառույթներով սուբստրատի մակերեսին:PVD (Physical Vapor Deposition) մակերևույթի մաքրման հիմնական տեխնոլոգիա է, որը լայնորեն օգտագործվում է տարբեր ոլորտներում նյութերի մակերևույթի ձևափոխման, ֆունկցիոնալացման, ձևավորման և այլնի համար:
PVD (ֆիզիկական գոլորշիների նստեցում) ծածկույթի տեխնոլոգիան հիմնականում բաժանված է երեք կատեգորիայի՝ վակուումային գոլորշիացման ծածկույթ, վակուումային ցրման ծածկույթ և վակուումային իոնային ծածկույթ։Ֆիզիկական գոլորշիների նստեցման հիմնական մեթոդները ներառում են վակուումային գոլորշիացում, ցրման ծածկույթ, աղեղային պլազմային ծածկույթ, իոնային ծածկույթ և այլն։
Մեր հարակից արտադրանքները ներառում են էլեկտրոնային փնջի խառնարանային ներդիրներ, վոլֆրամի գոլորշիացման թելեր, էլեկտրոնային հրացանով վոլֆրամի թելեր, գոլորշիացման նավակներ, գոլորշիացման նյութեր, ցայտող թիրախներ և այլն:
Վակուումային վառարան
Վակուումային վառարանն օգտագործում է վակուումային համակարգ (խնամքով հավաքված վակուումային պոմպերից, վակուումային չափիչ սարքերից, վակուումային փականներից և այլ բաղադրիչներից) վառարանի խոռոչի որոշակի տարածքում՝ նյութի մի մասը վառարանի խոռոչում արտանետելու համար, որպեսզի ճնշումը վառարանում լինի։ խոռոչը մեկ ստանդարտ մթնոլորտային ճնշումից պակաս է:, վառարանի խոռոչի տարածությունն օգտագործվում է վակուումային վիճակի հասնելու համար, որը վակուումային վառարան է։
Վակուումային վառարանը վակուումային ջերմամշակման վառարան է, որն առանձնանում է ըստ իր կիրառման և ներառում է հետևյալ տեսակները.
Վակուումային հանգցնող վառարան, վակուումային եռակցման վառարան, վակուումային մագնիսացնող վառարան, վակուումային մագնիսացնող վառարան, վակուումային ցրման վառարան, վակուումային դիֆուզիոն եռակցման վառարան, վակուումային կարբյուրացնող վառարան և այլն:
Վակուումային վառարանները հիմնականում օգտագործվում են կերամիկական այրման, վակուումային հալման, էլեկտրական վակուումային մասերի գազազերծման, կռելու, մետաղական մասերի հղկման, կերամիկական-մետաղների կնքման, ֆիզիկական գոլորշիների նստեցման (PVD) և այլն:
Մենք առաջարկում ենք ջեռուցման տարրեր, նավակների սկուտեղներ և կրիչներ, ջերմային վահաններ, կարասներ և ներդիրներ, վոլֆրամի թելեր և գոլորշիացման աղբյուրներ, ամրացումներ և ավելին, որոնք հասանելի են վոլֆրամի, մոլիբդենի կամ տանտալի նյութերից և կարող են հարմարեցվել:
Ֆոտովոլտային և կիսահաղորդչային
Մեկ բյուրեղյա սիլիցիումի աճեցման վառարան, որը նաև հայտնի է որպես սիլիցիումի բյուրեղյա աճի վառարան կամ սիլիկոնային ձուլակտորների վառարան, հատուկ սարքավորում է, որն օգտագործվում է ֆոտոգալվանային և կիսահաղորդչային արդյունաբերություններում՝ բարձրորակ միաբյուրեղային սիլիցիումային ձուլակտորներ արտադրելու համար:Միաբյուրեղային սիլիցիումը հիմնական նյութն է կիսահաղորդչային սարքերի արտադրության համար, ինչպիսիք են ինտեգրալ սխեմաները (ICs), արևային բջիջները և սենսորները:
«Չոխրալսկու մեթոդը» ներկայումս ամենաշատ կիրառվող մեթոդն է մեկ բյուրեղյա սիլիցիումի պատրաստման համար։
Չոխրալսկու մեթոդով (CZ մեթոդ) մեկ բյուրեղյա սիլիցիում պատրաստելիս սկզբում տեղադրեք բարձր մաքրության պոլիբյուրեղային սիլիցիում քվարցային կարասի մեջ, սպասեք մինչև բազմաբյուրեղ սիլիցիումը հալվի մեկ բյուրեղյա վառարանում, այնուհետև սերմերի բյուրեղը ամրացրեք սերմի վրա: առանցք և տեղադրեք այն լուծույթի մակերեսի մեջ:Սպասելով սերմերի բյուրեղի և լուծույթի միաձուլմանը, սիլիցիումը կսկսի կարծրանալ սերմերի բյուրեղի վրա և կաճի սերմերի բյուրեղի ցանցային կառուցվածքի երկայնքով՝ ձևավորելով միաբյուրեղ սիլիցիում:Այս գործընթացի ընթացքում սերմերի բյուրեղը պետք է դանդաղ քաշվի, որպեսզի միաբյուրեղ սիլիցիումը շարունակի աճել:
Մենք տրամադրում ենք մոլիբդենի սերմնաձողեր, վոլֆրամի և մոլիբդենի կարասների միջադիրներ, ամրացնող սարքեր, մոլիբդենի կեռիկներ, վոլֆրամի կարբիդի մուրճեր և այլն:
Ապակի և հազվագյուտ երկիր
Ապակու արդյունաբերությունը կենսական դեր է խաղում ժամանակակից հասարակության մեջ՝ ապահովելով հիմնական նյութեր շինարարության, տրանսպորտի, տեխնոլոգիայի, առողջապահության և փաթեթավորման համար՝ միաժամանակ խթանելով նորարարությունը, կայունությունը և տնտեսական աճը:
Մենք կարող ենք ապահովել մոլիբդենի էլեկտրոդներ ապակու հալման համար:Սովորաբար օգտագործվող մոլիբդենի էլեկտրոդների տրամագիծը տատանվում է 20 մմ-ից մինչև 152,4 մմ, իսկ մեկ էլեկտրոդի երկարությունը կարող է լինել մինչև 1500 մմ:Մենք կարող ենք տրամադրել ալկալիներով լվացված մակերեսներ, մեքենայացված մակերեսներ և այլն։
Հազվագյուտ հողերի արդյունաբերությունը ներառում է հազվագյուտ հողային տարրերի արդյունահանում, մշակում և օգտագործում, որոնք առանցքային են տեխնոլոգիական նորարարությունների խթանման և ցածր ածխածնային, բարձր տեխնոլոգիական տնտեսության անցմանը աջակցելու համար:Հազվագյուտ հողային տարրերը տարբեր առաջադեմ տեխնոլոգիաների և կիրառությունների կարևոր բաղադրիչներն են:
Մենք կարող ենք ապահովել վոլֆրամի, մոլիբդենի և տանտալի ջեռուցման տարրեր;սինթրած վոլֆրամի, մոլիբդենի կարասներ և գրաֆիտի կարասներ և այլն:
Գործիքներ և հաշվիչի պարագաներ
● Մետաղական դիֆրագմերը հիմնականում օգտագործվում են դիֆրագմայի ճնշման չափիչների և հաղորդիչների մեջ:Մեր արտադրած նյութերը ներառում են SS316L, տանտալ, տիտան, HC276, Monel400 և Inconel625:
● Ազդանշանային էլեկտրոդները հիմնականում օգտագործվում են էլեկտրամագնիսական հոսքաչափերում:Էլեկտրոդի չափը M3~M8 է, և նյութերը ներառում են SS316L, տանտալ, տիտան և HC276:
● Հողային էլեկտրոդը, որը նաև կոչվում է հողային օղակ, հիմնականում օգտագործվում է էլեկտրամագնիսական հոսքաչափերում և սովորաբար օգտագործվում է զույգերով:Չափերը DN25~DN600-ից են, և նյութերը ներառում են SS316L, տանտալ, տիտան և HC276:
● Դիֆրագմայով կնքված եզր, սովորաբար դիֆրագմայի կնիքով՝ չափիչ բջիջը միջավայրից մեկուսացնելու համար:Մեր արտադրած եզրային նյութերն են SS316L, տիտան, HC276 և տանտալ:Համապատասխանեցեք ASME B 16.5, DIN EN 1092-1 և այլ ստանդարտներին:
Ցանկանու՞մ եք ավելին իմանալ մեր արտադրանքի մասին:
Կապ մեզ հետ
Ամանդա│Վաճառքի մենեջեր
E-mail: amanda@winnersmetals.com
Հեռախոս՝ +86 156 1977 8518 (WhatsApp/Wechat)
Եթե ցանկանում եք իմանալ մեր արտադրանքի ավելի շատ մանրամասներ և գներ, դիմեք մեր վաճառքի մենեջերին, նա կպատասխանի ձեզ որքան հնարավոր է շուտ (սովորաբար ոչ ավելի, քան 24 ժամ), շնորհակալություն: